“中国半导体产业之“痛”：光刻胶始终受制于人”

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:中国半导体产业因光致抗蚀剂而失去颜色

前几天，江苏博砚电子科技有限企业技术部章宇轩接受科技日报记者采访时说:“如果我们把光刻机比作菜刀，光刻胶就像切割的菜，没有优质的菜，即使有锋利的菜刀，也不能做饭。”

在北京化学工业大学理工科院长聂俊眼里，中国已经成为世界半导体生产大国，但整个面板产业产业链依然落后。 目前，上游高端电子化学品( lcd用光刻胶)几乎依赖进口，必须加快面板产业重要核心材料的基础研究和产业化进程，才能支持中国微电子产业未来的迅速发展和国际“地位”的确立。

彩色胶卷掉了光刻胶，不能显示漂亮的画面

显示器是人与机器信息表达的重要接口。 光致抗蚀剂是整个光刻工艺的重要部分，也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，主要应用于集成电路和平板显示两个产业。 光刻技术决定了集成电路的集成度，领导了技术节点的推进和实现。

章宇轩说，我们在日常的业务生活中，之所以能从显示屏上看到彩色画面，是因为屏幕厚度只有2μm，却少不了占面板价格16%的彩色胶卷。 但是，彩色薄膜的颜色的产生必须用光致抗蚀剂来进行。

lcd是非有源发光器件，其颜色显示由自身的背光系统或外部环境光提供光源，由驱动器和控制器形成灰度显示，利用滤色器生成红、绿、蓝三原色，根据混色原理显示颜色

其中，抗蚀剂根据颜色可以分为黑、红、绿、蓝四种。 滤色器的制作是在玻璃基板上使用黑色抗蚀剂制作黑矩阵，进而使用红、绿、蓝抗蚀剂制作三原色像素。

光刻胶的开发，重要的是其成分多、杂、工艺技术难以掌握。 抗蚀剂的主要成分是高分子树脂、色浆、单体、感光诱发剂、溶剂及添加剂，开发相关的技术课题很多，低聚物结构的设计和筛选、合成工艺的明确和优化、活性单体的筛选和控制、色浆的纤度的控制和稳定 因此，要自主开发生产，技术难度非常高。

江苏汉拓光学材料有限企业副总裁孙友松告诉记者，在光致抗蚀剂的研究开发方面，中国起步晚，2000年以后开始重视。 虽然近年来发展迅速，但总体上还处于起步阶段。 实际上，技术水平与海外公司有很大差距，特别是尖端材料和设备依然依赖进口。

技术难以突破，国内公司受制于人

“产生与国际先进水平差距的原因很多。 以前，中国在开始规划集成电路产业的迅速发展方面，布局不合理，不完全，特别是再生产加工环节的投资，忽视了最重要的基础材料、装备和应用研究。 现在整个产业中间加工环节强，前后两端弱，核心技术至今被tok、jsr、住友化学、信越化学等日本企业垄断。 ”。 江苏博砚电子科技有限企业负责销售的经理李中强说。

发现光刻胶的主要技术指标是分辨率、显影时间、异物数量、附着力、阻抗等。 所有的技术指标都非常重要，采用需要所有的指标。 因此，海外公司在配方、生产技术等方面长期封锁中国。

实际上，我国在经验不足、专业技术人员不足、重要上游原材料不足的条件下，都是自己摸索的。 近年来，光刻胶的开发取得了一定的突破，但国产光刻胶不能使用。 目前，海外阻抗达到15次方以上，但国内公司只能10次方，不能满足顾客的工艺要求和产品升级的要求，虽然达成了一些工艺，但批次的稳定性较差。

“虽然10次方的光刻胶进行了多次烘烤，但无法得到客户要求的防静电作用，因此不适用于最新一代的窄边框、全面屏幕等高端面板。 在国外，防静电性能很好，达到15次方。 这还是我们的光刻胶材料、配方、生产工艺有问题。 ”。 李中强说。

重要指标没有达到要求，国内公司总是受制于人。 在国际上有一定竞争力的京东，现在有17个面板表示生产基地，其中16个面板正在生产。 但是，京东是高端面板用的光刻胶，由海外公司提供。

基础研究还需要出力，政府要重视鼓励牵引的应用

使显示屏色彩鲜艳的光致抗蚀剂依然是中国半导体产业的“疼痛”。 如何打破欧美和日本等国家和地区的封锁和垄断？

业界相关人士认为，在现在的“单打”研究开发路径上，绝对不行。 政府相关部门必须加大产业政策的辅助支持力度，从加快整个产业链出发，对国内不足的、产业依存度高的重要核心电子化学品进行定向整理，比较电子化学品开发难度高、检查设备要求高的优势，特别是

江苏博砚电子科技有限企业理事长宗健表示，光致抗蚀剂真正实现国产化难度很大。 最大的问题是国内生产光致抗蚀剂所需的原材料不足，目前开发的产品碳分散工艺不成熟，没有设置碳浆材料。 而且，作为生产光致抗蚀剂最重要的色浆，迄今为止一直依赖于日本。 前道工序出了问题，不能保证科学研究和生产，光刻胶的国产化很远。 因此，必须通过科研机构、生产公司的协同创新，尽快突破。

专家说，国产光刻胶暂时不能在高端面板上使用，但政府必须在政策上鼓励国内一般面板的生产公司尽快使用。 只能在应用过程中发现问题，处理问题，提高技术、技术和产品水平，实现中国重要的电子化学品材料的国产化，完善中国集成电路的产业链，满足国家和要点产业的诉求。 (记者过了国忠)